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Thin Film Transistors - Materials and Processes (Paperback, Softcover reprint of the original 1st ed. 2004)
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Thin Film Transistors - Materials and Processes (Paperback, Softcover reprint of the original 1st ed. 2004)
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References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
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. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 170 List
of Symbols . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 176 CHAPTER 4 a-Si:H
TFT Structures . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 183 YueKuo
1. Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 183 2. Basic Structures
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . 183 3. Simplified Structures and Processes . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . 188 4. Unique Structures and Processes . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . 192 5. Redundant Structures . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . 195 6. Summary . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . 198 References . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . 200 List of Symbols . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
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. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 202
CHAPTER 5 Deposition of Intrinsic and Doped Semiconductor Thin
Films for a-Si:H TFT . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 203 YueKuo 1.
Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 203 2. Semiconductor
Layer Deposition . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 206 3. Doped Amorphous
and Microcrystalline Silicon . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . 223 4. Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 231
References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 233 List
of Symbols . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 239 CHAPTER 6
Deposition of Dielectric Thin Films for a-Si:H TFT . . . . . . .
241 YueKuo 1. Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 241 2.
Selection of Dielectric Materials and Deposition Methods . . . . .
. . 242 3. PECVD SiNx Dielectric Layer . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 244 4. Yield
Issues Related to Dielectrics . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 263 5.
Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 265 References . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 267 List of Symbols . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . 271 CHAPTER 7 Plasma Etching in a-Si:H TFT
Array Fabrication . . . . . . . . 273 YueKuo 1. Introduction . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . 273 2. Topics in Plama Etching of a-Si:H TFTs
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. 278 Table of Contents Vll 3. Summary . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . 306 References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
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. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . 307 CHAPTER 8 Metallization in a-Si:H TFT Array Fabrication . .
. . . . . . . . . . . 313 Ken-ichi Onisawa, Shinji Takayama, Yuzo
Shigesato, Takuya Takahashi 1. Introduction . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . 313 2. Basic Understanding of Conductor Lines in TFT LCDs *. .
. . *. . . . 314 3. Conductor Requirements for a-Si:H TFTs . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 318 4.
Conducting Materials for TFT Array . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 321 5. Key Issues
in Conducting Materials for Advanced TFT Array Fabrication . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . . . . . . . . . 324 6. Conductor Deposition for TFT Arrays
. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
. . . . 337 7. Wet Etching of Conductors for a-Si:H TFT Arrays . .
. . . . . . . . . . . . . . . 347 8. Summary . . . . . . . . . . .
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